光刻胶
浅析负性显影技术
浅析负性显影技术作者：王妍来源：《中国科技术语》2014年第07期 摘 要：负性显影作为近年来出现的显影技术，应用于半导体器件制造的光刻工艺中，通过使用特殊的溶剂使得图像反转，能够形成高分辨率的图案，在纳米级器件的制造方面具有广阔的应用前景。 关键词：负性显影，光刻，分辨率 &n...
光刻胶的作用原理和用途
光刻胶的作用原理和用途光刻胶是一种在现代电子工业中广泛使用的技术。光刻是一种将图案在光刻胶上映射、照射并刻蚀的方法，是一种制造微电子元器件的有效工艺之一。本文将着重介绍光刻胶的作用原理和用途。一、光刻胶的作用原理光刻胶是一种由光敏材料、单体、助剂等组成的特种胶液，被设计用于制作微细的高精度结构及半导体元器件。其基本作用原理如下：家庭吧台设计1、光敏性原理光刻胶的基本原理是光敏材料暴露在紫外线下，光...
